特種氣體分類：高純氣體通常指利用現代提純技術能達到的某個等級純 度的氣體，對于不同類別的氣體，純度指標不同，大多用于超大規模集成電路及分離器 件、光電子等高科技領域；特種氣體在太陽能電池中的應用：晶體硅電池片生產中的擴散工藝用 到 POCl3 和 O2，減反射層 PECVD 工藝用到 SiH4、NH3，刻蝕工藝用到 CF4；20 世紀 80 年代，電子產 業的興起推動特種氣體的需求提高，隨著氣體供應商供氣模式的引入，國內 企業原有的氣體車間、氣體廠和供氣站等紛紛發展為獨立的氣體公司，國內特種氣體市 場逐步發展起來。
特種氣體在集成電路領域的應用：特種氣體是半導體材料制造過程不可缺少的基硅性支撐材料，處于半導體產業鏈的 上游，被稱為半導體的“源”，主要應用于薄膜、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴散等工藝。特種氣體的重要性：電子特種氣體決定了集成電路的終良率和可靠性。由于電子氣體用途多，用量大。所以電子氣體也直接決定了 終芯片的良率和可靠性，特種氣體的儲存注意事項：為防止高壓容器跌倒、滾落、損壞、閥門泄漏等造成安全隱患，存放場地需平坦，操作需謹慎、輕柔；并用鏈條、繩索等將其固定在靠墻等堅固位置。
特種氣體指半導體生產環節中，比如延伸、離子注進、摻和、洗滌、 遮掩膜形成過程中使用到一些化學氣體，也就是氣體類別中的電子氣體，特種氣體分類：電子氣體是指用于半 導體及其它電子產品生產的氣體，目前，我國電子氣體品種基本齊全，但數量和質量與 發達國家相比，尚有較大差距；特種氣體在太陽能電池中的應用：晶體硅電池片生產中的擴散工藝用 到 POCl3 和 O2，減反射層 PECVD 工藝用到 SiH4、NH3，刻蝕工藝用到 CF4；
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